Ультрачистая вода является критически важным компонентом в производстве электроники, где следовые количества загрязняющих веществ могут повлиять на выход продукции и ее производительность. Система ультрачистой воды Robinson, производимая компанией Membrane Solutions, предназначена для обработки воды от предварительной очистки до финальной очистки для производства полупроводников, дисплеев и электронных компонентов. Диапазон расхода и спецификации качества воды предназначены для поддержки непрерывной промышленной эксплуатации, с производительностью, соответствующей стандартам ASTM для электронно-чистой воды.
Точное производство зависит от контролируемого качества воды
В производстве электроники, полупроводников и дисплеев чистота воды напрямую влияет на выход продукции и ее производительность. Загрязняющие вещества, попадающие в процессе очистки или промывки, могут повлиять на надежность устройств, делая водоподготовку основной частью управления процессом, а не второстепенной службой.
Система Robinson разработана для удовлетворения этих требований посредством полного цикла обработки, начиная с предварительной очистки и заканчивая продвинутой очисткой. Система предназначена для подачи воды, соответствующей электронным стандартам ASTM EW-I и EW-II, согласно производителю.
Конфигурации расхода охватывают широкий диапазон производства
Система доступна в широком диапазоне мощностей, от 375 галлонов в день до 288 000 галлонов в день. Это соответствует примерно от 0,06 кубических метров в час до 45,4 кубических метров в час, что позволяет операторам сопоставлять производительность обработки с производственным спросом и пиковыми нагрузками.
| Параметр | Спецификация |
|---|---|
| Диапазон расхода (GPD) | От 375 GPD до 288 000 GPD |
| Диапазон расхода (м³/ч) | От 0,06 м³/ч до 45,4 м³/ч |
| Стандарт качества воды | Соответствует стандартам ASTM для электронно-чистой воды (EW-I, EW-II) |
Выбор мощности зависит от конкретного потребления воды производственной линией и ее профиля пиковых нагрузок. Сопоставление системы с этими условиями предназначено для поддержания работы в эффективном диапазоне, заявляет производитель.
Области применения охватывают полупроводники, дисплеи и электронные компоненты
Система используется на этапах производства, где качество воды строго контролируется. В производстве полупроводников и интегральных схем эти этапы включают очистку кремниевых пластин, обработку пластин и высокочистую промывку.
В технологии дисплеев система применяется для очистки поверхности ЖК-дисплеев, производства электронно-лучевых трубок, очистки стекла и производства люминофоров. В производстве электронных компонентов она используется для очистки алюминиевой фольги и деталей для электролитических конденсаторов, а также для производства электронных ламп и ЭЛТ.
Точная очистка электронных материалов и печатных плат представляет собой еще одну область применения, где система используется для процессов мойки и смачивания.
Конструкция системы подчеркивает стабильность процесса
Последовательность обработки предназначена для контроля загрязняющих веществ с этапа предварительной очистки, а этапы фильтрации и очистки разработаны для поддержания конечного качества воды. Для высокоточных процессов эта согласованность является центральной для стабильного производства и воспроизводимых результатов.
Часто задаваемые вопросы
Ультрачистая вода является критически важным компонентом в производстве электроники, где следовые количества загрязняющих веществ могут повлиять на выход продукции и ее производительность. Система ультрачистой воды Robinson, производимая компанией Membrane Solutions, предназначена для обработки воды от предварительной очистки до финальной очистки для производства полупроводников, дисплеев и электронных компонентов. Диапазон расхода и спецификации качества воды предназначены для поддержки непрерывной промышленной эксплуатации, с производительностью, соответствующей стандартам ASTM для электронно-чистой воды.
Точное производство зависит от контролируемого качества воды
В производстве электроники, полупроводников и дисплеев чистота воды напрямую влияет на выход продукции и ее производительность. Загрязняющие вещества, попадающие в процессе очистки или промывки, могут повлиять на надежность устройств, делая водоподготовку основной частью управления процессом, а не второстепенной службой.
Система Robinson разработана для удовлетворения этих требований посредством полного цикла обработки, начиная с предварительной очистки и заканчивая продвинутой очисткой. Система предназначена для подачи воды, соответствующей электронным стандартам ASTM EW-I и EW-II, согласно производителю.
Конфигурации расхода охватывают широкий диапазон производства
Система доступна в широком диапазоне мощностей, от 375 галлонов в день до 288 000 галлонов в день. Это соответствует примерно от 0,06 кубических метров в час до 45,4 кубических метров в час, что позволяет операторам сопоставлять производительность обработки с производственным спросом и пиковыми нагрузками.
| Параметр | Спецификация |
|---|---|
| Диапазон расхода (GPD) | От 375 GPD до 288 000 GPD |
| Диапазон расхода (м³/ч) | От 0,06 м³/ч до 45,4 м³/ч |
| Стандарт качества воды | Соответствует стандартам ASTM для электронно-чистой воды (EW-I, EW-II) |
Выбор мощности зависит от конкретного потребления воды производственной линией и ее профиля пиковых нагрузок. Сопоставление системы с этими условиями предназначено для поддержания работы в эффективном диапазоне, заявляет производитель.
Области применения охватывают полупроводники, дисплеи и электронные компоненты
Система используется на этапах производства, где качество воды строго контролируется. В производстве полупроводников и интегральных схем эти этапы включают очистку кремниевых пластин, обработку пластин и высокочистую промывку.
В технологии дисплеев система применяется для очистки поверхности ЖК-дисплеев, производства электронно-лучевых трубок, очистки стекла и производства люминофоров. В производстве электронных компонентов она используется для очистки алюминиевой фольги и деталей для электролитических конденсаторов, а также для производства электронных ламп и ЭЛТ.
Точная очистка электронных материалов и печатных плат представляет собой еще одну область применения, где система используется для процессов мойки и смачивания.
Конструкция системы подчеркивает стабильность процесса
Последовательность обработки предназначена для контроля загрязняющих веществ с этапа предварительной очистки, а этапы фильтрации и очистки разработаны для поддержания конечного качества воды. Для высокоточных процессов эта согласованность является центральной для стабильного производства и воспроизводимых результатов.
Часто задаваемые вопросы